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Le contrôle des impuretés élémentaires dans les produits pharmaceutiques est essentiel pour la sécurité des patients. La section générale de la norme USP〈232〉 définit les limites et la classification des éléments, tandis que la norme USP〈233〉 définit les procédures analytiques à utiliser pour déterminer ces impuretés.
La norme USP〈232〉 classe les éléments en quatre catégories en fonction de leur profil de toxicité et de la probabilité de leur présence dans la fabrication des médicaments.
Classe 1 : Éléments présentant le risque le plus élevéIl s’agit d’éléments à forte toxicité dont l’utilisation dans la fabrication des médicaments est restreinte ou interdite. Ils doivent faire l’objet d’une évaluation au cas par cas.
Il s’agit d’éléments relativement courants dans la fabrication pharmaceutique et susceptibles de présenter des effets toxiques. Ils font l’objet d’une attention prioritaire dans les évaluations des risques.
Ces éléments sont généralement présents à l’état naturel à de faibles concentrations. À moins d’être ajoutés intentionnellement au cours du processus de fabrication, ils peuvent généralement être exclus de l’évaluation.
Il s'agit d'éléments dont la toxicité est relativement faible lorsqu'ils sont administrés par voie orale. Ils doivent faire l'objet d'une évaluation distincte dans les produits administrés par voie parentérale ou par inhalation.
Les limites sont basées sur l'approche PDE (exposition quotidienne admissible). Le tableau ci-dessous résume les valeurs PDE applicables aux médicaments administrés par voie orale. Des valeurs PDE différentes s'appliquent aux produits administrés par voie parentérale ou par inhalation.
| Élément | Classe | PDE par voie orale (µg/jour) |
|---|---|---|
| Cadmium (Cd) | 1 | 5 |
| Plomb (Pb) | 1 | 5 |
| Arsenic (As) | 1 | 15 |
| Mercure (Hg) | 1 | 30 |
| Vanadium (V) | 2A | 10 |
| Cobalt (Co) | 2A | 50 |
| Nickel (Ni) | 2A | 200 |
| Thallium (Tl) | 2B | 8 |
| Or (Au) | 2B | 100 |
| Iridium (Ir) | 2B | 100 |
| Osmium (Os) | 2B | 100 |
| Palladium (Pd) | 2B | 100 |
| Platine (Pt) | 2B | 100 |
| Rhodium (Rh) | 2B | 100 |
| Ruthénium (Ru) | 2B | 100 |
| Argent (Ag) | 2B | 150 |
| Sélénium (Se) | 2B | 150 |
| Baryum (Ba) | 3 | 1 400 |
| Antimoine (Sb) | 3 | 1 200 |
| Cuivre (Cu) | 3 | 1 300 |
| Lithium (Li) | 3 | 550 |
| Molybdène (Mo) | 3 | 3 000 |
| Étain (Sn) | 3 | 6 000 |
| Chrome (Cr) | 3 | 11 000 |
Remarque : les valeurs PDE varient en fonction de la voie d’administration (orale, parentérale, par inhalation). Se reporter au texte original de l’USP〈232〉 pour connaître les valeurs actuelles.
L’USP〈233〉 définit deux procédures analytiques de base à utiliser pour la détermination des impuretés élémentaires.
Procédure 1 : ICP-OESLa spectrométrie d’émission optique à plasma à couplage inductif repose sur le principe de l’excitation des éléments présents dans l’échantillon au sein d’un environnement de plasma et de la mesure de la lumière qu’ils émettent en fonction de leur longueur d’onde.
Procédure 2 : ICP-MSLa spectrométrie de masse à plasma à couplage inductif repose sur le principe de la séparation et de la mesure des éléments ionisés dans le plasma en fonction de leur rapport masse/charge.
L’USP〈233〉 définit des critères spécifiques d’adéquation du système afin de démontrer la validité de la méthode d’analyse :